Absolwent Roku Politechniki Częstochowskiej


Lada moment nastąpi wybór absolwentów Politechniki Częstochowskiej za rok 2020. Decyzję w tej sprawie podejmuje kapituła Stowarzyszenia Wychowanków Politechniki Częstochowskiej oraz Uczelnia, pod patronatem rektora. Gala planowana jest na koniec kwietnia 2021 roku.

 

– Jest to doroczne święto Politechniki Częstochowskiej, statuetką honoruje osoby, które się poprzez swoją działalność wybijają się ponad przeciętność. Nie ma określonego profilu działalności, wyboru dokonuje się w szerokiej gamie – od sportu przez biznes po działalność społeczną. W gronie dotychczasowych wyróżnionych były osoby, które otarły się nawet o ranking 100 najbogatszych Polaków Forbesa – mówi wiceprezes Stowarzyszenia Wychowanków Politechniki Piotr Dobosz.

Nominować do tytułu może każdy, ale wyboru 10 kandydatów spośród wszystkich zgłoszeń dokonuje Zarząd Stowarzyszenia. – Następnie kapituła konkursu, którą tworzą członkowie Zarządu oraz laureaci dotychczasowych edycji (do tej pory laureatów było 19), w wyniku głosowania wybiera laureata. Każdy z głosujących oddaje punkty na pierwsze, drugie i trzecie miejsce. Osoba z największą liczbą punktów zdobywa tytuł laureata – tłumaczy Piotr Dobosz. Za rok 2019 został nim Krzysztof Witkowski – znany częstochowski przedsiębiorca i społecznik, twórca i dyrektor jedynego w świecie Muzeum – Muzeum Monet i Medali Jana Pawła II. Drugie miejsce zajął  Krzysztof Petecki, kierownik i szef pionu IT w międzynarodowym koncernie motoryzacyjnym ZF, trzecie – Marcin Szpądrowski, znany częstochowski artysta fotografik. Dodatkowo Kapituła wybiera Ambasadora Politechniki Częstochowskiej, który działa poza granicami kraju. W 2019 roku głosowanie na tę statuetkę wygrał europoseł Marek Balt.

Na czele Zarządu Stowarzyszenia Wychowanków PCz aktualnie stoją: prezes Włodzimierz Chwalba, prezes Metal Union, budowniczy Kościoła Akademickiego w Częstochowie, oraz wiceprezes Piotr Dobosz, dyrektor oddziału śląskiego KRUS w Częstochowie.

UG

Podziel się:

Dodaj komentarz

Twój adres e-mail nie zostanie opublikowany. Wymagane pola są oznaczone *